VENA-2000
分类: 射频匹配器  发布时间: 2017-11-14 
VENA-2000

详细介绍

VENA系列自动匹配器用于真空镀膜、等离子刻蚀、等离子清洗、物理气象沉积,化学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备PECVD等设备当中,主要功能是实现全自动匹配,解决了现在国内真空镀膜设备中的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准确,节省人力和时间等特点。可选的射频系统检测模块可实时检测出系统的正反功率、驻波比、射频信号峰值电压、电流、直流偏置电压等,从而使您能够发现并显著降低制程变化性。

优势

●性能安全可靠,长时间工作稳定
●实时反射功率测量与控制
●优化设计、安装、使用与维修十分简便
●传输效率高,运行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒,与其他射频功率发生器配合使用

特点

●加强了镀膜与刻蚀工艺的控制
●优化的匹配算法加速匹配时间
●最大限度地减少驻波比与反射功率
●严格的可靠性测试

使用参数:

匹配功率范围

0-2000W

工作频率:

13.56MHZ

正常工作反射功率

<3W

匹配时间

<3S

传输效率

>90%

匹配器电源

AC220V/50-60HZ

输入连接器

N型

输出连接器

UHF

控制模式

手动/自动

可设预置点数

7

匹配阻抗范围

实部0-80Ω 虚部-j200-j200(可根据负载调节阻抗)

匹配器尺寸

450X294X151MM

整机重量

9.5KG

冷却方式

强制风冷加水冷

点击次数:1212  更新时间:2017-11-14  【打印此页】  【关闭
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